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6JA干涉顯微鏡是用來測量精密加工零件表面（平面、圓柱等外表面）光潔度的儀器。也可以用來測量零件表面刻線、刻槽鍍層（透明）等深度。儀器配以各種附件，還能測量粒狀，加工紋路混亂的表面，低反射率的工件表面。同時還能將儀器安置在工件上，對大型工件表面進行測量。儀器測量表面不平深度范圍為1-0.03微米，用測微目鏡和照明方法來評定▽10-▽14光潔度的表面。

9J光切法顯微鏡具有相同頻率及振動方向和恒定相位差的光線，在空間疊加會發生干涉現象，這就是光波的干涉原理。利用光波的干涉原理和顯微鏡非接觸檢測特點對試樣表面上高度極微小差別進行測量。

LWD200-37T采用優良的無限遠光學系統，配置長工作距離平場物鏡與大視野目鏡。緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微操作的防振要求。旋轉擺入擺出式聚光系統，可對高培養皿或圓筒狀燒瓶進行無沾染培養細胞觀察。落射熒光顯微系統采用模塊化設計理念，可以安全、快揵地調整照明系統，切換熒光濾色片組件。

LW150PT偏光顯微鏡被廣泛應用在礦物、高分子、纖維、玻璃、半導體、化學等領域，利用光的偏振特性對具有雙折射性物質進行研究鑒定的儀器， 可供廣大用戶做單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察等等。